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產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

CVD系統(tǒng)系周期作業(yè)，供企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，大專院校，科研院所等單位選用，設(shè)備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，應(yīng)用在半導(dǎo)體，納米技術(shù)，碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。