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真空快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節(jié)省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結(jié)果，取消了反復(fù)的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。

PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）

RTP快速退火爐操作便捷，電熱元件采用紅外燈管，升溫速度快，節(jié)省時間，滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化，方便操作，可快速得到實驗結(jié)果，取消了反復(fù)的法蘭安裝過程，減少了爐管因安裝造成的損壞。

CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。